1200 °C PECVD-System mit drei Heizzonen
1200 °C PECVD-System mit drei Heizzonen

1200 °C PECVD-System mit drei Heizzonen

SK2-CVD-12TPB4 ist ein Rohrofen für ein PECVD-System, bestehend aus einer 300 W oder 500 W HF-Stromversorgung, einem mehrkanaligen Präzisionsflusssystem, einem Vakuumsystem und einem Rohrofen. Die üblicherweise verwendete Temperatur beträgt 1100 Grad Celsius oder weniger. Seine Hauptmerkmale sind niedrige Abscheidungstemperatur, hohe Geschwindigkeit, gute Filmqualität, weniger Nadellöcher und geringere Rissanfälligkeit. Ein ideales Gerät zum Züchten von Nanodrähten oder zum Herstellen verschiedener dünner Filme mit der CVD-Methode.
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Besonderheit

 

● Maximaltemperatur RT-1200 Grad

● Geteilter Ofentyp, Sie können den Ofen öffnen.

● Kann mehr als 2 Gaskanäle mit einem Vakuumgrad von 10 Pa einführen, indem eine mechanische Pumpe und eine 500-W-HF-Stromversorgung zur Signalverstärkung verwendet werden.

● Hochwertiges Leistungsisolationsmaterial aus Aluminiumoxidkeramikfasern

● Temperaturregelgenauigkeit ±1 Grad

● Mit Übertemperatur-Alarmfunktion

● Ein Kühllüfter kann die Temperatur des Gehäuses senken

 

Modell

SK2-CVD-12TPB4

Abmessungen: Standard Heizzonenlänge (mm)

440 mm

Abmessungen: Standard-Rohrdurchmesser (mm)

∮60 mm

Max. Temperatur

1200 Grad, Dauerbetriebstemperatur 1100 Grad.

Spannung (V)

220 1P

Thermoelementtyp

K

Heizkörper

Widerstandsdraht aus HRE-Legierung

Temperaturpräzision

±1 Grad

Erwärmungsrate

0-30 Grad /min freie Einstellung

Kammermaterial

Verwendung von hochqualitativem mikrokristallinem Aluminiumfasermaterial

Ofenstruktur

Doppelschichtige luftgekühlte Struktur, Oberflächentemperatur weniger als 60 Grad

Temperaturregler

Intelligentes PID-Temperaturregelgerät, 30 Programmsegmente, SSR-Steuerung, Selbstoptimierungsfunktion für PID-Parameter; Programmtemperaturanstieg, Programmwärmeerhaltung, Programmkühlung

500W HF-Netzteil

Ausgangsleistung: 5-500W ±1 Grad

HF-Frequenz: 13,56 MHz ±0,005 %

Reflektierte Leistung: bis zu 100W

Übereinstimmung: Automatisch

HF-Schnittstelle: 50Ω, N-Typ

Kühlung: Luftkühlung

Stromversorgung: AC 208-240V, 50/60HZ

4-Gaskanal-Präzisionsflusssystem

1. Volle Durchflussrate (5, 10, 30, 50, 100, 200, 300, 500) ml/min. 10 l/min.

2. Ventiltyp: Magnetventil.

3. Ruhestellung des Ventils: Normalerweise geschlossen.

4. Differenzdruck: (50-300)kpa

5. Druckbeständigkeit: 3 MPa.

6. Betriebstemperatur: 5-45 Grad

7. Materialien: Edelstahl 316L.

Vakuumsystem

5*10-3Pa

KF25 Schnellkupplung, Edelstahlbalg, manuelles Klappenventil und Flansch, Vakuumpumpe

Optional können auch Systeme mit höherem Vakuum ausgestattet werden.

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WILLKOMMEN OEM/ODM

 

Standardzubehör

 

Thermohandschuhe|Tiegelhaken|Thermoelement|Rohrblock|Benutzerhandbuch|Werkzeuge|Vakuumpumpe|Quarzrohr|Flansch|Dichtungsring|10 mm-Gasschlauch|Flanschhalterung, Gassystem, HF-Stromversorgung.

 

Wahlfrei

 

Verschiedene Heizzonen zur Auswahl;

LCD-Touchscreen-Steuerung zur Auswahl

RS485/USB-Anschluss zum Anschließen eines Computers nach Auswahl.

 

Detailbild für CVD-PECVD

 

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500W HF-Netzteil
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Vakuumsystem
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4-Gaskanal-Präzisionsflusssystem

 

Anwendung

 

Dieses Gerät wird hauptsächlich zum Züchten von Nanodrähten oder zum Vorbereiten verschiedener Dünnschichtzüchtungen mittels CVD-Methode verwendet.

 

Garantie

 

Ein Jahr Garantie und lebenslanger technischer Support

Besondere Tipps:

1. Verbrauchsmaterialien wie Heizelemente, Quarzrohre, Probentiegel usw. fallen nicht unter die Garantiezeit.

2. Schäden, die durch die Verwendung von ätzenden Gasen und sauren Gasen entstehen, werden nicht von der Garantie abgedeckt.

 

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